-
1 Chemical Vapour Deposition
Nuclear physics: CVDУниверсальный русско-английский словарь > Chemical Vapour Deposition
-
2 Liquid Phase Chemical Vapour Deposition
Electronics: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > Liquid Phase Chemical Vapour Deposition
-
3 Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition
Abbreviation: PECVDУниверсальный русско-английский словарь > Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition
-
4 metal organic chemical vapour deposition
Foreign Ministry: MOCVDУниверсальный русско-английский словарь > metal organic chemical vapour deposition
-
5 modified chemical vapour deposition
Cables: MCVDУниверсальный русско-английский словарь > modified chemical vapour deposition
-
6 low-pressure chemical vapor deposition
1) Microelectronics: low-pressure chemical vapour deposition2) Makarov: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
-
7 organometallic chemical vapor deposition
Microelectronics: organometallic chemical vapour deposition, OMCVDУниверсальный русско-английский словарь > organometallic chemical vapor deposition
-
8 CVD
chemical vapor deposition — химическое осаждение из газообразного состояния вещества на подложку ( метод роста кристаллов из газовой фазы)chemical vapor deposition — химическое осаждение из паровой фазы, нанесение твёрдого покрытия парообразными химическими соединениями (напр., парами карбидов хрома и титана) -
9 CVD welding
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > CVD welding
-
10 химическое осаждение из паровой фазы
1) Engineering: (газовой) chemical vapor deposition, chemical vapor deposition2) Electronics: chemical vapor plating3) Microelectronics: cvd, chemical vapour depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы
-
11 ХПО
Microelectronics: chemical vapor deposition, chemical vapour deposition -
12 химическое парофазное осаждение
1) Microelectronics: chemical vapor deposition, chemical vapour deposition2) Makarov: CVDУниверсальный русско-английский словарь > химическое парофазное осаждение
-
13 осаждение из парогазовой фазы
= нанесение покрытий из парогазовой фазыua\ \ [lang name="Ukrainian"]осадження з парогазової фази, нанесення покриттів з парогазової фазиen\ \ [lang name="English"]chemical vapour deposition, CVD-process•Терминологический словарь "Металлы" > осаждение из парогазовой фазы
-
14 газофазное химическое осаждение
= химическое осаждение из паровой фазы, CVD-процессua\ \ [lang name="Ukrainian"]газофазне хімічне [осадження], хімічне осідання [осадження] з парової фази, CVD-процесen\ \ [lang name="English"]chemical vapour deposition, CVD-process, chemical vapourplating, gas plating, thermochemical platingde\ \ [lang name="German"]chemische Abscheidung aus der Gasphase, CVD-Prozeß, CVD-Verfahrenfr\ \ \ procédé CVDметод нанесения покрытий путем конденсации на подложке продуктов химических реакций, протекающих в газах, и (или) путем химического взаимодействия между газовой фазой и подложкойТерминологический словарь "Металлы" > газофазное химическое осаждение
-
15 ХОПФ
-
16 Хопф
-
17 лазерно-индуцированное химическое осаждение из паров
Универсальный русско-английский словарь > лазерно-индуцированное химическое осаждение из паров
-
18 модифицированный метод химического парофазного осаждения
Универсальный русско-английский словарь > модифицированный метод химического парофазного осаждения
-
19 LP-MOCVD
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > LP-MOCVD
См. также в других словарях:
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition, PECVD or sometimes PCVD, is the process by which chemicals are deposited onto a substrate using a Radio Frequency (RF) Plasma to split the precursors into active ions.TheoryPrecursor chemical enter the… … Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Plasma enhanced chemical vapour deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical Vapour Infiltration — Der Begriff chemische Gasphaseninfiltration (englisch chemical vapour infiltration, CVI) bezeichnet ein Verfahren, bei dem in Anlehnung an das CVD Verfahren (CVD = chemical vapour deposition) ein Bauteil nicht nur oberflächlich beschichtet wird,… … Deutsch Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia
Metalorganic chemical vapor deposition — (MOCVD) is a chemical vapor deposition process that uses metalorganic source gases. For instance, MOCVD may use tantalum ethoxide (Ta(OC 2H 5) 5), to create tantalum pentoxide (Ta 2O 5), or Tetrakis Dimethyl Amino Titanium(IV) (TDMAT) to create… … Wikipedia
Metalorganic vapour phase epitaxy — (MOVPE), also known as organometallic vapour phase epitaxy (OMVPE) or metalorganic chemical vapour deposition (MOCVD), is a chemical vapour deposition method of epitaxial growth of materials, especially compound semiconductors from the surface… … Wikipedia
Electron beam induced deposition — (EBID) is a process of decomposing gaseous molecules by electron beam leading to deposition of non volatile fragments onto a nearby substrate. Process Focused electron beam of scanning electron microscope (SEM) or scanning transmission electron… … Wikipedia
